Forschungszentrum Karlsruhe - Wissenschaftliche Berichte - FZKA 6998
Röntgenlithographie, Vernetzungs- und Pyrolyseverhalten des präkeramischen Polymers ABSE
Richard Heldele
Zusammenfassung
Neben dem in der Industrie mittlerweile etablierten
Hoch- und Niederdruck-Mikrospritzgießen keramischer Feedstocks existieren nur
wenige Verfahren, wie die elektrophoretische Abscheidung, die Potential für die
Fertigung keramischer Mikrostrukturen aufweisen. Durch die Nutzung
lithographischer Strukturierungsverfahren, die die Grundlage für den Erfolg der
Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik darstellen, können keramische
Mikrostrukturen mit einer geringen Linienbreite und einem hohen
Aspektverhältnis im Nutzen hergestellt werden.
Die Strukturierbarkeit des keramischen
Vorläuferpolymers ABSE konnte in früheren Arbeiten nachgewiesen werden. Zur
Ermittlung der optimalen Lithographieparameter ist die Kenntnis des
Vernetzungsverhaltens dieses neuartigen
Negativ-Resists essentiell. Diverse spektroskopische
Methoden wurden zur Untersuchung des photochemischen Vernetzungsmechanismus in
der vorliegenden Diplomarbeit eingesetzt.
Die starke Schrumpfung des präkeramischen Polymers
während der Pyrolyse führt häufig zur Zerstörung der Mikrostrukturen auf Wafern
(Al2O3, Si). Arteigene Substrate wurden durch
verschiedene Gießverfahren hergestellt. Diese Substrate unterliegen der
gleichen Schrumpfung während der Pyrolyse und gewährleisten so den Erhalt der
Mikrostrukturen. Das Einbringen von Siliziumnitrid in die polymere Matrix
ermöglicht die Verringerung des Pyrolyseschrumpfes. Es konnte gezeigt werden,
dass die Art der Dispersionsaufbereitung großen Einfluss auf die
Prozesseigenschaften hat.
X-ray
lithography, crosslinking and pyrolysis behaviour of the preceramic polymer
ABSE
Abstract
Low-
and high pressure micro ceramic injection molding is the only fabrication
method established in the industrial process. There are only a few techniques,
besides electrophoretic deposition, that offer the potential for manufacturing
ceramic micro parts. The success of microelectronics and microsystem
technologies are based on the development of various lithographic methods.
These could be used to fabricate high aspect ratio ceramic components with
minimal line width.
Former work demonstrated that the preceramic polymer ABSE is structurable through x-ray lithography. Since ABSE is a novel negative resist the knowledge of its crosslinking behaviour for optimization of lithographic parameters is essential. The photochemical crosslinking was investigated in this present diploma thesis by various spectroscopic methods.
Ceramic
precursors often show massive shrinkage during pyrolysis. This leads to the
destruction of microstructures on wafers (Al2O3, Si).
Hence, to guarantee dimensional reproducibility, new substrates out of the same
material were manufactured through several casting processes. Adding silicon
nitride to the polymeric matrix leads to lower shrinkage in the pyrolysis step.
It was shown that the way of conditioning the dispersions is of important
influence to the process.
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