•Dirk Fuchs¹, Markus Adam^1,2 und Rudolf Schneider^1
1Forschungszentrum Karlsruhe GmbH, Institut für Festkörperphysik, Postfach 3640, D-76021 Karlsruhe
²Physikalisches Institut, Universität Karlsruhe, Engesserstrasse 7, D-76128 Karlsruhe

Bei der Herstellung oxidischer Schichten bietet die UV-PLD eine Reihe signifikanter Vorteile gegenüber anderen Plasma-Technologien. Aufgrund der starken UV-Absorption der Oxide können beispielsweise sehr hohe Abscheidungsraten realisiert werden. Für die In-situ Herstellung verschiedener Oxide benötigt man keine unterschiedlichen Plasma-Quellen, was eine enorme Reduktion des technischen Aufwandes bedeutet. Von daher hat sich die PLD bereits in vielen Labors etabliert. Im Hinblick auf technische Anwendungen besitzen oxidische Vielschichtsysteme ein hohes Potenzial, da die niedrige Dimension und mögliche Kopplungen zwischen verschiedenen Schichten ungewöhnliche physikalische Eigenschaften erwarten läßt. In unserem Beitrag berichten wir über die Herstellung von dielektrischen LaAlO₃/SrTiO₃-Übergittern durch das PLD-Verfahren. Die kristallographischen und dielektrischen Eigenschaften dieser Vielschichtsysteme wurden mittels Röntgendiffraktometrie beziehungsweise Impedanzspektroskopie charakterisiert.