•Jochen Geerk, Alexander Zaitsev, Gerhard Linker, Rolf Aidam, Rudolf Schneider, Fritz Ratzel, Rainer Fromknecht, Bernd Scheerer, Hans Rainer, Emile Gaganidze und Reiner Schwab
Forschungszentrum Karlsruhe, IFP, ITP und IMF I, Postfach 3640, D-76021 Karlsruhe

Es wurde ein Beschichtungssystem aufgebaut bestehend aus drei hintereinandergeschalteten Kammern zur simultanen doppelseitigen in-situ-Deposition von HTSL- und Pufferschichten auf Substrate mit Durchmessern bis zu 5 Zoll. Wir zeigen die zur Beschichtung wichtigen Eigenschaften der Anlage wie die Temperaturhomogenität am Substratort, die lateralen Variationen von Schichtdicke und -zusammensetzung und die supraleitenden Eigenschaften der deponierten HTSL-Filme auf Saphirwafern u.a. die kritische Stromdichte, den Oberflächenwiderstand R_s und die Leistungsabhängigkeit von R_s. Auf 3-Zoll-Wafern wurden Streifenleiter- und Scheibenresonatoren hergestellt sowie hair-pin-Filter mit bis zu 10 Polen strukturiert. Wir berichten über die Eigenschaften einiger dieser Bauelemente.