•M. Deubel¹ und M. Wegener^1,2
1Institut für Angewandte Physik, Universität Karlsruhe (TH), Wolfgang-Gaede-Straße 1, 76131 Karlsruhe
²Institut für Nanotechnologie, Forschungszentrum Karlsruhe in der Helmholtz-Gemeinschaft, 76021 Karlsruhe

Mittels der so genannten holographischen Lithographie ist es im Prinzip möglich, Photonische Kristalle zugehörig zu allen 14 Bravais-Gittern in drei Dimensionen herzustellen. Der weitere Charme dieses Zugangs besteht darin, dass in einem nachfolgenden zweiten Belichtungsschritt Defekte und Wellenleiter durch stark fokussierte Femtosekunden-Laserimpulse in drei Dimensionen geschrieben werden können. Hierbei ist die Kompatibilität der Prozessschritte essentiell. Insbesondere muss derselbe Photolack benutzt werden. Hier stellen wir Ergebnisse im Dickfilm-Photolack SU-8 vor. Bei Verwendung eines Ölimmersionsobjektivs mit einer numerischen Apertur von 1.4 erreichen wir ca. 200 nm laterale und 550 nm longitudinale Auflösung. Verschiedene Teststrukturen werden vorgestellt.