Herstellung von Templaten für dreidimensionale Photonische Kristalle mittels holographischer Lithographie

•Daniel C. Meisel1, Yuri V. Miklyaev1, Wolfpeter Koch2, Georg von Freymann1, Kurt Busch3 und Martin Wegener1,2
1Institut für Nanotechnologie, Forschungszentrum Karlsruhe in der Helmholtz-Gemeinschaft, D-76021 Karlsruhe
2Institut für Angewandte Physik, Universität Karlsruhe (TH), D-76128 Karlsruhe
3Institut für Theorie der Kondensierten Materie, Universität Karlsruhe (TH), D-76128 Karlsruhe

Wir belichten eine ca. 10 mm dicke SU" 8-Photolackschicht mit einem Vielstrahlinterferenzmuster und entwickeln diese. Die Einstrahlrichtungen der Laserstrahlen legen den Gittertyp fest, die Intensitäten und Polarisationen die Form der Oberfläche des Basiselementes [1]. Die Lichtquelle ist ein gütegeschalteter und frequenzverdreifachter Nd:YAG-Laser. Durch Einsatz eines optischen Einkoppelelementes konnte erstmals eine dreidimensional-periodische Photolack-Luft-Struktur mit fcc-Gittersymmetrie hergestellt werden [2]. Die Template werden mittels REM-Aufnahmen und optischer Transmissionsspektroskopie untersucht. Es ergibt sich ein Stoppband, dessen Lage und Breite

[mit Bandstrukturrechnungen übereinstimmt. 1