•M. Hermatschweiler^1,2, D. C. Meisel^3,2, M. Diem^4,2, K. Busch^4,2,5 und M. Wegener^1,3,2
1Inst. f. Angewandte Physik, Universität Karlsruhe (TH), 76128 Karlsruhe
²DFG-Center for Functional Nanostructures
³Inst. f. Nanotechnologie, Forschungszentrum Karlsruhe in der Helmholtz-Gemeinschaft, 76021 Karlsruhe
⁴Inst. f. Theorie der Kondensierten Materie, Universität Karlsruhe (TH), 76128 Karlsruhe, Germany
⁵School of Optics/CREOL and Dep. of Physics, Univ. of Central Florida, Orlando, USA

Die holographische Lithographie mit drei Strahlen stellt eine sehr flexible Methode dar, um großflächig zweidimensional-periodische Photolackstrukturen herzustellen. Dazu wird eine ca. 25 mm dicke SU-8-Photolackschicht mit einem Interferenzmuster bei 355 nm Wellenlänge belichtet und anschließend entwickelt. Verschiedene Strukturen bestehend aus unterschiedlich geformten Luftsäulen in hexagonaler und graphitähnlicher Anordnung mit einer Gitterkonstanten von ca. 620 nm wurden hergestellt. In GM-Richtung wurden Stoppbänder im sichtbaren Spektralbereich und im nahen Infrarot als Transmissionsminima und entsprechende Reflexionsmaxima polarisationsabhängig mit einem FTIR nachgewiesen. Die Transmission wurde durch ca. 200 mm ausgedehnte Proben gemessen. Trotz der geringen Brechzahl (n=1,6) ergaben sich Reflexionsmaxima von bis zu 70 %. Die optischen Messungen sind in guter Übereinstimmung mit Transmissions- und Reflexionsrechnungen sowie Bandstrukturrechnungen.